【关于云顶集团官方网站】pecvd镀膜设备用到哪些气体
PECVD镀膜设备用到的气体 本文将详细阐述PECVD镀膜设备用到的气体。首先介绍PECVD镀膜设备的基本原理,然后从六个方面分别介绍PECVD镀膜设备所使用的气体,包括工作气体、载气、反应气体、清洗气体、抽气气体和辅助气体。最后对PECVD镀膜设备用到的气体进行总结归纳。 一、工作气体 工作气体是PECVD镀膜设备中最重要的气体之一,常用的工作气体有氨气、硅烷等。氨气作为主要工作气体,提供了氮和氢的源头,它在反应室中与硅烷等反应气体发生化学反应,生成所需的薄膜材料。硅烷则是最常用的硅源,它与